Microchip发布PIC16F13145系列MCU,促进可定制逻辑的新发展
为了满足嵌入式应用日益增长的定制化需求,Microchip Technology推出了PIC16F13145系列单片机(MCU),提供量身定制的硬件解决方案。该系列MCU配备了全新的独立于内核的外设(CIP),即可配置逻辑块模块,可直接在MCU内创建基于硬件的定制组合逻辑功能。由于集成到MCU,CLB使设计人员能够优化嵌入式控制系统的速度和响应时间,无需外部逻辑元件,从而降低了物料清单(BOM)成本和功耗。图形接口工具可帮助使用CLB综合定制逻辑设计,进一步简化了流程。PIC16F13145系列专为利用定制协议、任务排序或 I/O 控制来管理工业和汽车领域实时控制系统的应用而设计。
PIC16F13145
Microchip负责8位单片机业务部的副总裁Greg Robinson表示:“可配置逻辑单元 (CLC)模块集成到Microchip MCU中已有十多年历史,新发布的CLB模块是我们可定制逻辑产品发展的新阶段,使该系列MCU能够用于通常属于独立可编程逻辑器件领域的应用。当今市场上很少有单芯片解决方案能像PIC16F131系列MCU那样解决嵌入式工程师的设计难题。新型MCU可处理定制逻辑功能,最大限度地降低功耗,简化设计,并能适应不断变化的设计要求。”
CLB工具
由于CLB的运行不依赖于CPU的时钟速度,因此能改善系统的延迟,并提供低功耗解决方案。CLB可用于在CPU休眠模式下做出逻辑决策,从而进一步降低功耗和软件依赖性。PIC16F13145 MCU还包括一个具有内置计算功能的快速10位模数转换器(ADC)、一个8位数模转换器 (DAC)、快速比较器、8位和16位定时器以及串行通信模块(I2C和SPI),从而可以在没有CPU的情况下执行许多系统级任务。该系列将提供从8引脚到20引脚的各种封装。
CLB Block Diagram
开发工具
PIC16F13145系列MCU得到MPLAB代码配置器(MCC)支持 ,这是MPLAB X IDE中一个免费软件插件,提供了一个基于GUI的简便接口,用于配置器件和板载外设(包括CLB)。该接口可为高级用户提供使用硬件描述语言(HDL)的选项,通过原理图设计所需的定制逻辑,从而缩短开发时间。新的合成器有两种选择:集成到MCC,以及在线方式logic.microchip.com。PIC16F131 Curiosity Nano评估工具包为使用PIC16F131系列进行设计提供全面支持,可协调实现无缝嵌入式开发体验,缩短产品上市时间。
供货与定价
PIC16F131 MCU每件售价0.47美元,10,000件起售。
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光芯片(PIC)&电芯片(EIC)共封装技术
介绍硅光芯片和电芯片共封装的几种不同形式及其主要特点。
到 2022 年,全球互联网流量预计将达到每月近 400 EB,对数据中心互连带宽的需求将继续以指数级的速度增长 。预测到了2030年,数据中心能耗持续增长,全球数据中心的用电量超过 3 PWh,最坏的情况可能高达 8 PWh 。为了满足互联网流量需求,数据中心节点带宽需要达到 10 Tb/s ,为了减缓数据中心能耗增长的趋势,必须想办法降低系统、器件的功耗。每个封装的 I/O 引脚数差不多每6年翻一番超过I/O总带宽3、4年翻一番。解决这些速率差异需要3、4年 I/O 的带宽翻倍。
将硅光技术引入的目的是增加 I/O 带宽并最大限度地降低能耗。光集成电路(PIC)和电集成电路(EIC)如何封装,非常重要。光具有的最小信号衰减、低能耗、高带宽以及利用成熟CMOS生态系统的能力。反过来,这些因素直接影响到 I/O 带宽和能耗,因此,光与电的不当集成会抵消硅光子的所有潜在优势。下面将重点介绍 PIC 和 EIC 之间的集成方案。
1、单片集成
图1 单片集成
单片集成是EIC和PIC加工在一块芯片上,在PIC 和 EIC 之间互连时无需额外的引线或bumps,从而最大限度地减少了由于封装而导致阻抗不匹配情况。通过将两个die组合成一个,封装简单。I/O 到计算节点可以通过wire-bonds或Flip-Chip到PCB。理论上,该封装是非常好的,但实际并非如此,硅光工艺节点相对电芯片工艺而言,比较落后。为单片集成开发的最先进工艺是45 nm和 32 nm制程,与电芯片10 nm 和以下工艺相比,这些工艺在性能上非常落后。此外,还存在高波导损耗、低光电二极管响应率和低光电二极管带宽的问题。总之,采用单片集成模式,目前来看,工艺制程的融合势必会牺牲一部分整体性能,而且单片集成开发成本非常昂贵,由此产生的技术不如异构集成开发灵活。
2、2D集成封装
图2 2D集成
2D集成是PIC 和 EIC 并排放置在PCB,如图2所示。通过引线进行互连以及和PCB之间的连接。2D 集成的好处是易于封装,但其最大的缺点是对引线的依赖。虽然引线可以达到 25 μm ,但 PIC 和 EIC 之间的连接仅限于单边,严重限制了 I/O数量。
3、3D集成封装
图3 3D集成封装
3D封装也可最大限度的减小封装尺寸。在3D集成封装中,最常见的是将EIC倒装在PIC之上,如图3所示。EIC通过铜柱或者ubumps和PIC互连,然后再通过Wire Bonds与PCB进行互连。铜柱或ubumps互连间距范围为 40 μm ~50 μm,可以实现密集I/O。后续预计可以降低到20μm,10μm,甚至更小,满足更高密度的需求。3D 集成封装最大的问题在于散热。虽然 3D 集成可以提供更密集I/O间距和最小封装尺寸,但当前并没有最佳的散热方案。EIC产生的热量会传递到PIC上,每0.5W的功耗,都可能引起20℃的温升。对于PIC这种热敏感元件而言,这是致命的问题。如图4所示,3D集成还有另外一个方案,硅光芯片同时作为一个interposer中介层,里面有TSV,通过TSV直接和PCB形成互连。
图4 3D集成封装的另外一种模式
4、2.5D集成封装
图5 2.5D集成封装
2.5D集成封装,是一个折中的技术,EIC和PIC均倒装在interposer中介层上。2.5D 集成时,其封装尺寸大于3D集成,因为两个芯片之间是平面放置的,当然该模式也不限于这两个芯片的封装。同时,因为信号必须通过两次bumps,信号性能会一些影响。
总结:如下图所示,光芯片和电芯片之间共封装技术是下一代技术的重点研究方向。然而,不同的封装形式,有着不用的优劣,2.5D、3D封装在不同厂家都有研究,功耗、互连性能都对何种封装形式有巨大影响。距离该技术的全面商用,预计还有几年,在这几年中,硅光技术、封装技术、散热技术等的发展都将影响最终的实际结果。让我拭目以待吧。
转自:知乎
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